美國HARRICK原位池，原位漫反射附件，低溫反應(yīng)室，低溫紅外附件，CHC-CHA-3紅外低溫池，低溫反應(yīng)池，CHC-VUV-3紫外漫反射低溫反應(yīng)室，紅外漫反射附件，用于在-150°C至600°C對粉末進行漫反射測量，HARRICK 原位漫反射附件，HARRICK 光譜儀附件原位漫反射 HARRICK 低溫紅外附件，適用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)。

漫反射光譜法是檢測粗糙材料表面變化的一種非常靈敏的方法。它對具有高比表面積的粉末特別有效。這使得漫反射對于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)和氧化機制的研究非常寶貴。Harrick低溫反應(yīng)室非常適合在仔細變化的溫度和壓力下進行此類研究。這些低溫反應(yīng)室允許在廣泛的控制溫度和壓力下進行漫反射測量，并與用于FT-IR和UV-Vis漫反射光譜的漫反射配件一起使用。 設(shè)計用于高真空（133μPa或10-6托）至133 kPa（1 ktorr）和-150°C至600°C（真空條件下）的研究。

提供三個入口/出口，用于排空反應(yīng)池和引入氣體。
由耐化學(xué)腐蝕的316不銹鋼制成。

HARRICK 低溫紅外附件包括
反應(yīng)室
低壓加熱筒。
K型熱電偶。
樣品包裝工具和溢出托盤。
帶有兩個KBr窗口和一個玻璃觀察窗口的圓頂（FTIR配置）
帶有兩個SiO2窗口和一個玻璃觀察窗口的圓頂（UV-Vis-NIR配置）

HARRICK 光譜儀附件原位漫反射 搭配附件：

（1）漫反射裝置 DRP-XXX

（2）溫控儀ATK-024-6